真空镀膜技术的现状及发展趋势

2022/06/20

真空镀膜技术不仅能够满足人们对于产品外观的需求，而且在镀膜过程中不会对周围环境产生较大的污染。

　　真空镀膜技术始于20世纪30年代，当前真空镀膜技术已从实验室走向了工厂，实现了大规模生产，在光伏、建筑、装饰、通讯、照明等工业领域得到了广泛的应用。

　　真空镀膜技术是指在真空环境下，通过蒸发金属等固体材料，使其气态化并附着到产品物件的表面，形成一层均匀的薄膜，增强产品的抗腐蚀性、美观性等。从整体来看，真空镀膜技术较传统的电镀方法，在成本、环保、产品质量、装饰效果、能源消耗等方面具有较大优势，是一门拥有光明发展前景的新兴技术。

　　真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE 分子束外延，PLD 激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

　　真空镀膜主要有两种方法：热蒸发镀膜法和磁控溅射法。真空镀膜在材料上的选择较传统镀膜方式更加自由，最常用的有金属单质、合金和金属化合物。目前，市场上用金属铝作为镀膜材料的产品众多，主要是因为金属铝具有较低的熔点并且能够很好地对光进行反射，同时作为金属，铝还具有较好的耐腐蚀性能，延展性优良等优点，在镀膜工程中，操作方便，对被镀产品影响较小。高纯度的铝对比其他金属单质来说，在价格上也比较低。

　　随着科学技术不断更新，技术瓶颈的不断突破，真空镀膜技术也会不断地变革更新，在未来会与微电子器件及纳米技术等高科技相结合，形成一套相关的检查方法和实用技术，而电子束蒸发源将会成为真空镀膜技术中最常用的镀膜材料加热方法和发展趋势。据相关数据统计：2021年全球PVD真空镀膜设备市场规模241亿元，预计未来持续保持平稳增长的态势，到2028年市场规模将接近316亿元。

　　总之，真空镀膜技术不仅可以降低污染，保护环境，节约资源，而且还能够满足人们对产品外观的要求。在未来，随着真空镀膜技术的不断推广和国家*策的进一步倾斜，真空镀膜技术会历久弥新，不断改进，日趋完善，同时也会具有更加广阔的市场前景。