镀膜技术-真空镀膜机的工作原理

2021/07/29

真空镀膜主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，PLD激光溅射沉积等很多种。

主要是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的叫做基片，镀的材料叫做靶材。

基片与靶材一同放入真空室内。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面成分以原子团或离子形式被蒸发出来，沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面成分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

典型的真空镀膜，包括了录像带，数据磁带DAT，以及很多电极的制作过程。